光催化氧化除臭設備機制主要包括兩方面:一是高壓放電等離子體的過程，高能量產生的高頻放電，一些有害的氣體化學能，使其成為無害的元素原子或;***二,由于高壓放電等離子體,其中包含***量的高能電子,積極的和消極的離子、激發態粒子和有很強的氧化基,粒子和氣體碰撞我的活動部分,在電場的作用下,激發態的氣味。當氣味獲得的能量超過其鍵的結合能時，臭味的化學鍵就會分解并直接分解成單個或無害的單個原子。同時，***量的活性基，如OH,HO2，·O和O3，被高度氧化，與有害氣體發生化學反應，產生無害的產物。

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